紡織品柔性電路製程及穿戴聯網技術

智慧型低功耗奈米陣列電子鼻

技術名稱	次世代半導體製程 - 突破光學極限，低成本實現亞 20 奈米晶片結構
計畫單位	AlixLabs AB
計畫主持人	Amin Karimi
技術簡介	AlixLabs 所開發並擁有專利的「原子層間距分裂（APS）」是一種全新基於電漿的蝕刻技術，能選擇性地針對表面拓撲結構進行操作。此突破性方法簡化了晶片製造中的多重複雜步驟，使半導體生產更高效、具成本效益且更永續。
產業應用性	AlixLabs 的 APS 技術提供了一種突破性且永續的半導體微縮解決方案。APS 透過原子級精準製程實現亞 10 奈米結構，而無需仰賴高成本的次世代微影技術。該技術完全相容於現有設備，不僅能降低資本支出與營運成本，還能減少能源、水資源使用與二氧化碳排放。