本計畫開發「量子退火光罩最佳化框架」，利用D-Wave量子退火器解決半導體微影中的光罩最佳化問題。傳統反向微影技術(ILT)面臨收斂困難、容易局限於局部最小值及計算時間過長等挑戰。我們將ILT問題轉換為二元二次無約束最佳化(QUBO)模型，運用量子特性實現快速全域最小值搜尋。研究建立了可應用量子退火

首次實現半導體微影光罩最佳化的量子計算應用，嘗試突破傳統ILT的計算瓶頸。成功將高階成本函數轉換成二次的QUBO模型，在量子退火的基礎上達成理論上微秒等級的最佳化速度。使用動態成本函數修正技術，確保二次近似的準確性。

本技術首度將量子退火應用於半導體微影光罩最佳化，突破傳統反向微影技術在收斂性與計算時間上的限制。透過將複雜的高階成本函數轉換為二元二次無約束最佳化（QUBO）模型，結合動態成本修正技術，能以理論上微秒等級的速度達成全域最佳化。