本計畫開發「量子退火光罩最佳化框架」，利用D-Wave量子退火器解決半導體微影中的光罩最佳化問題。傳統反向微影技術(ILT)面臨收斂困難、容易局限於局部最小值及計算時間過長等挑戰。我們將ILT問題轉換為二元二次無約束最佳化(QUBO)模型，運用量子特性實現快速全域最小值搜尋。研究建立了可應用量子退火

首次實現半導體微影光罩最佳化的量子計算應用，嘗試突破傳統ILT的計算瓶頸。成功將高階成本函數轉換成二次的QUBO模型，在量子退火的基礎上達成理論上微秒等級的最佳化速度。使用動態成本函數修正技術，確保二次近似的準確性。此突破為半導體製造引入量子優勢，開創計算微影的新典範，為未來大規模量子應用奠定關鍵技

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