技術名稱 大氣環境下實踐分子流狀態的微細孔洞
計畫單位 國家同步輻射研究中心
計畫主持人 詹哲鎧
技術簡介
結合國輻中心真空小組之氣導測量技術與陽明交通大學電子物理系超快動力學實驗室之飛秒雷射鑽孔加工技術所合作開發的新型標準氣導元件(Standard Leak Element, SLE )。
科學突破性
使用飛秒雷射加工的新型標準氣導元件具有極小的氣導值( 1 × 10-6 L s-1),可在超高真空及高溫環境下使用,實現外加工作氣體壓力小於一大氣壓條件下,氣體分子於氣導元件通道內形成分子流之狀態。
產業應用性
所開發的新型標準氣導元件可運用於校正精密之真空儀器設備(如量測離子真空計/殘留氣體分析儀對不同氣體的靈敏度、測量真空幫浦的抽氣速率、校正氦氣測漏儀的漏率)及作為一差分抽氣元件使用(如運用於大氣殘留氣體分析儀、二次離子質譜儀的離子源)。
媒合需求
天使投資人、策略合作夥伴
關鍵字 氣導 飛秒雷射 分子流
備註
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  • 詹哲鎧
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