技術名稱 基於深度學習網路之積體電路光學微影及蝕刻製程模擬及光罩修正技術
計畫單位 國立清華大學
計畫主持人 林嘉文
技術簡介
本技術包含了兩個深度學習網路用來模擬實際製程,第一個LithoNet 網路根據所給定的積體電路設計圖,模擬光學微影及蝕刻製程產生出一張預測的電路形狀。第二個OPCNet 網路藉由前面已經訓練好的光學蝕刻模擬網路,而修正獲得一個新的遮罩,在經過實際製程後能夠得到與原始電路圖獲得極為相近的結果。
科學突破性
本技術為世界第一個可準確模擬光學微影及蝕刻製程對積體電路金屬線路所產生形變的深度學習網路,可以遠快於現有光學模型模擬器的速度,準確地模擬出電路形狀,並據以修正光罩形狀。
產業應用性
本技術可用於積體電路製造業進行電路預測,瑕疵分析等虛擬量測等應用,及積體電路之設計可製造性之提升。
關鍵字 深度學習 卷積神經網路 積體電路製造 虛擬量測 光學微影 蝕刻 光罩修正 光學鄰近修正 電腦輔助設計 設計可製造性
備註
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  • 劉卉宥
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