Name: 原子層數位化蝕刻技術
Brand: Future Tech Pavilion, FUTEX
SKU: P0008800000652

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高效能高均勻性氮化鎵節能功率元件技術開發

先進原子層材料與模組技術

技術名稱	原子層數位化蝕刻技術
計畫單位	國立臺灣大學
計畫主持人	-
技術簡介	利用氧化氣體擴散瓶頸加上化學蝕刻，達到蝕刻厚度的精準度在原子尺度
科學突破性	大面積蝕刻率均勻，可以不需要利用時間控制
產業應用性	電晶體製程技術，十奈米以下電晶體製程技術
關鍵字
備註

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