技術名稱 3D列印開模-客製化抗反射螢光高分子膜壓印技術
計畫單位 國立清華大學
計畫主持人 闕郁倫
技術簡介
本技術利用光學模擬結合3D列印開模製作螢光高分子抗反射膜,可應用於各案場之光伏模組以達到增益光學吸收、降低死區耗損、增加太陽光譜利用率等多重優勢,且該螢光高分子抗反射膜也可直接用於可撓式模組封裝,未來在戶外休閒、建築設施、國防通訊、農業等領域都有實際應用需求。
科學突破性
本技術利用低成本3D列印開模技術結合連續式壓印製作螢光高分子抗反射膜,可針對各案場條件提供最佳之抗反射效果,也可對不同串接方式之模組調整結構周期避開死區損耗,同時藉由量子點技術擴展太陽光譜之利用率,目前仍無相同概念之製程被提出。
產業應用性
未來光伏產業將朝多樣化應用發展,但至今尚無可因應各案場條件之低成本、客製化的抗反射技術。而本技術使用的高分子膜材料可為EVA、POE、UV固化膠或Teflon AF,依模組生命期及實際應用場域而定,且該高分子薄膜可直接應用於可撓式光伏模組封裝製程,可用於各種曲面之外也方便摺疊收納,使用者能自行組裝架設,用途彈性高。
關鍵字 太陽能電池 前玻璃壓花 抗反射結構 3D列印 量子點 建築一體式光伏 矽膠膜 丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物 光學模擬優化 死區
備註
  • 聯絡人
  • 王乙仲