技術名稱 精準數位化原子層蝕刻技術
計畫單位 國立臺灣大學
計畫主持人 陳敏璋
技術簡介
具有埃(Å)尺度之精準度、逐層(layer-by-layer)蝕刻、高度共形性(conformality)、大面積均勻、以及無表面損傷(damage-free)之先進原子層蝕刻技術
科學突破性
原子層蝕刻技術具有埃(Å)尺度之精準度、高度共形性(conformality)、逐層(layer-by-layer)蝕刻、自限性(self-limiting)、自停止性(self-stop)、大面積均勻、以及無表面損傷(damage-free)等特性,可應用於次世代原子層級之先進半導體元件。
產業應用性
提供逐層(layer-by-layer)蝕刻、無表面損傷(damage-free),高度共形性(conformality)、大面積均勻、並具原子層級的精準蝕刻技術,用以實現次世代原子層級之先進半導體元件。
關鍵字 原子層沉積 原子層蝕刻 逐層蝕刻 無表面損傷蝕刻 高共形性蝕刻 先進半導體元件製造 原子層技術 鰭式場效應電晶體 環繞閘極場效應電晶體 大面積均勻
備註
  • 聯絡人
  • 殷瑀彤
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