| 技術名稱 | 用雙光子3D積層製造系統製作3D微光學元件 | ||
|---|---|---|---|
| 計畫單位 | 國立清華大學奈米工程與微系統研究所 | ||
| 計畫主持人 | 傅建中 | ||
| 技術簡介 | 使用自行架設的雷射源、光路系統、運動平台與顯微鏡，配合電腦輔助設計開發3D微奈米級結構的加工系統，建立新的3D微光學元件製程方法，並分析完成元件之功能可行性。 |
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| 科學突破性 | "雙光子微影結合了雙光子吸收的非線性光學效應與雷射直寫技術，再經由材料堆疊使此種奈米3D微影技術可製造出任意微結構，將曝光微影技術正式推向任意3D結構。 目前此系統可製作約300nm的橫向解析度，1200nm的縱向解析度，結構高度可大於130um，製程範圍達18mm x 18mm，最高加工速度可達1 |
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| 產業應用性 | "Two-photon lithography combines the nonlinear optical effect of two-photon absorption with laser direct writing technology,through the material |
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| 關鍵字 | |||
| 備註 | |||
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